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    fhvbwx
    fhvbwx 放射が倍になっても熱伝導に全然勝てない。ただ、宇宙空間みたいな放射に頼るしかない極限環境では使える技術かもしれない。

    2024/05/11 リンク

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    lli
    lli 酸化膜厚はどの程度まで増やせるのかな

    2024/05/11 リンク

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    aionarap
    aionarap 野村先生のフォノンエンジニアリングはむちゃくちゃ先進的で将来の期待も大きいけど、実用化はまだ軽く10年かかるのであんまりタイトルで煽らないでほしい…けど、アテンション集めるためにはしゃーないのかな

    2024/05/11 リンク

    その他
    whalebone
    whalebone 『熱の伝わり方には伝導、対流、放射の3種類があるが、誘電体薄膜においては「表面フォノンポラリトン」が4つ目の伝わり方としてあることが知られている。』

    2024/05/11 リンク

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    su_rusumi
    su_rusumi CPU自体の電力効率は変わらないが、冷却システム側を簡易化できる。

    2024/05/11 リンク

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    fraction
    fraction やったね、夢の第二種永久機関まだ後一歩!

    2024/05/11 リンク

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    takeishi
    takeishi 「表面フォノンポラリトン」

    2024/05/11 リンク

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    toshikish
    toshikish 東大のどの研究グループなのかが本文に書いてなくて,ページ最下部のリンクを辿らないとわからない。

    2024/05/11 リンク

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    tyhe
    tyhe あくまで放射熱が増えるだけで発熱そのもの(電力消費)を抑えられるわけでは無いのね。

    2024/05/11 リンク

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    ch1248
    ch1248 ほう

    2024/05/11 リンク

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    aoiyotsuba
    aoiyotsuba p

    2024/05/10 リンク

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    sgo2
    sgo2 熱伝導の制御成功https://www.jst.go.jp/pr/announce/20170805/index.html→熱伝導に指向性を持たせるのに成功https://www.jst.go.jp/pr/announce/20170518/index.html→別の応用技術開発(コレ) という流れらしい。さらっと凄い事が進んでるな

    2024/05/10 リンク

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    omioni
    omioni 近年の半導体の性能向上は熱(密度)がかなり問題だった覚え https://atmarkit.itmedia.co.jp/ait/articles/1810/23/news018.html

    2024/05/10 リンク

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    hasiduki
    hasiduki 半導体を今よりもっともっと冷やす技術!!!!!!すごいじゃん!!!!!!

    2024/05/10 リンク

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    tanakamak
    tanakamak ポワトリン?

    2024/05/10 リンク

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    nmcli
    nmcli "熱の伝わり方には伝導、対流、放射の3種類があるが、誘電体薄膜においては「表面フォノンポラリトン」が4つ目の伝わり方としてある" なんと。知らなかった。

    2024/05/10 リンク

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    yoko-hirom
    yoko-hirom チップ端面だけ放熱が良くなっても焼け石に水では。

    2024/05/10 リンク

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    kazeula
    kazeula "シリコンの表面を30nmだけ酸化し、そこに表面フォノンポラリトンを発生させることができる誘電体を形成" 半導体の電気的性質に影響を与えないのかな

    2024/05/10 リンク

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    mojimojikun
    mojimojikun この仕組みを使うと従来よりもうまく放熱できるようになるって事? とすると、今までよりもあっちっちぃーなCPUやGPUができるようになる感じなのかしらん。

    2024/05/10 リンク

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